本文主要是真空室專用真空系統(tǒng)的介紹贮乳。真空系統(tǒng)的核心是真空室，它是針對具體應用量身定做的稳诚。它包括應用并將其可靠地與外部分離或防止環(huán)境受內部流程影響。不管干燥過程是否需要高真空環(huán)境，等離子體過程都需要在中或高真空環(huán)境下進行唬格，而表面研究也需要在高真空環(huán)境下進行：真空室必須始終機械地承受其與大氣的壓差。

真空室是廣泛應用于現(xiàn)代制造工業(yè)和科學研究的基本裝置之一颜说，例如電子工業(yè)购岗、信息產業(yè)的大規(guī)模印刷線路、集成電路和大面積超導薄膜的制備等门粪，真空沉積過程中通常對真空度都有較高的要求喊积。真空沉積時真空室的漏氣、真空室壁面的放氣和被蒸發(fā)材料本身的放氣都可能導致真空室內真空度的快速變差玄妈，因此需要采用相應的措施快速改善真空室內的真空度乾吻。目前，在保證真空室良好密封性的前提下措近，采用具有大抽速的鈦升華泵可以使真空室快速達到超高真空度溶弟。由于鈦在升化和沉積的過程中，與活性氣體結合成穩(wěn)定的化合物——固相的TiO或TiN瞭郑，從而能夠快速將真空室內的氣體分子抽除辜御。

針對現(xiàn)有技術的不足，本發(fā)明的目的就是提供一種費用相對低廉的快速提高真空室專用真空系統(tǒng)真空度的方法屈张。

為實現(xiàn)上述目的擒权，普諾克提供一種快速提高真空室真空度的方法袱巨，在真空室內，使活性高且穩(wěn)定性好的金屬蒸發(fā)形成蒸氣粒子碳抄，并將該蒸氣粒子沉積于金屬板表面形成金屬膜愉老，金屬粒子及其形成的新鮮金屬膜可以快速吸附真空室內的氣體分子，并進一步生成穩(wěn)定的固態(tài)物質剖效。在真空室內嫉入，采用蒸發(fā)方式，使少量活性高且穩(wěn)定性好的金屬材料蒸發(fā)為蒸氣粒子璧尸，蒸氣粒子迅速與真空室內的水蒸氣咒林、氧氣、氫氣等氣體發(fā)生反應爷光，生成穩(wěn)定的固態(tài)物質垫竞，從而達到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室專用真空系統(tǒng)的真空度蛀序，不僅費用低廉而且迅速高效欢瞪。

經過真空室專用真空系統(tǒng)的介紹，為達到最佳配置徐裸，選擇真空系統(tǒng)時遣鼓，應考慮下述各點：

1.確定工作真空范圍

首先必須檢查確定每一種工藝要求的真空度。因為每一種工藝都有其適應的真空度范圍倦逐，必須認真研究確定之譬正。

2.確定極限真空度

在確定了工藝要求的真空度的基礎上檢查真空泵系統(tǒng)的極限真空度，因為系統(tǒng)的極限真空度決定了系統(tǒng)的最佳工作真空度檬姥。一般來講曾我，系統(tǒng)的極限真空度比系統(tǒng)的工作真空度低20%，比前級泵的極限真空度低50%健民。

3.真空容積

檢查確定達到要求的真空度所需要的時間抒巢、真空管道的流阻與泄漏”蹋考慮達到要求真空度后在一定工藝要求條件下維持真空需要的抽氣速率蛉谜。

4.被抽氣體種類與抽氣量

檢查確定工藝要求的抽氣種類與抽氣量。因為如果被抽氣體種類與真空泵內液體發(fā)生反應崇堵，真空系統(tǒng)將被污染型诚。同時必須考慮確定合適的排氣時間與抽氣過程中產生的氣體量。