等離子清洗（PLASMA）是一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”，來(lái)去除物體表面污漬的一種清洗方法筐喳。它屬于電子工業(yè)清洗中的干法清洗羡鸥，過(guò)程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需吃谣，東莞市普諾克真空科技有限公司來(lái)說(shuō)說(shuō)旋片真空泵在等離子清洗技術(shù)中的應(yīng)用過(guò)程是怎么一回事锅风，以及講解一下旋片真空泵具有什么特點(diǎn)淀歇。

等離子清洗所需要的等離子體主要通過(guò)特定的氣體分子在真空潘懊、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生姚糊，像低壓氣體輝光等離子體。簡(jiǎn)單地如開頭說(shuō)授舟，等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行（一般需保持在100Pa左右）救恨，所以需要德國(guó)旋片真空泵進(jìn)行抽真空作業(yè)。

等離子清洗用旋片真空泵的過(guò)程是如何的释树？

其主要過(guò)程包括：首先將需要清洗的工件送入真空室固定肠槽，啟動(dòng)旋片真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度；接著向真空室引入等離子清洗用的氣體（根據(jù)清洗材質(zhì)的不同奢啥，選用的氣體也不同秸仙，如氧氣、氫氣桩盲、氬氣寂纪、氮?dú)獾龋毫Ρ３衷?00Pa左右赌结；在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓捞蛋，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電使其發(fā)生離子化柬姚，產(chǎn)生等離子體拟杉；在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后，開始清洗作業(yè)量承，清洗過(guò)程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘搬设。整個(gè)過(guò)程就是依靠等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)空間運(yùn)動(dòng)穴店，并轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理拿穴、清洗和刻蝕的效果（清洗過(guò)程某種程度就是輕微的蝕刻工藝）泣洞；清洗完畢后，排出汽化的污垢及清洗氣體贞言，同時(shí)向真空室內(nèi)送入空氣恢復(fù)至正常大氣壓斜棚。

清洗過(guò)程中，在旋片真空泵控制真空室的真空環(huán)境時(shí)该窗，氣體的流量決定了發(fā)光色度：如果色度較重，說(shuō)明真空度低蚤霞，氣體流量較大酗失；而偏白時(shí)，則是真空度過(guò)高昧绣，氣體流量較泄骐取；具體需要根據(jù)所需的處理效果夜畴，來(lái)確定真空泵要實(shí)現(xiàn)的真空度拖刃。

等離子清洗技術(shù)不分處理對(duì)象的基材類型，對(duì)金屬贪绘、半導(dǎo)體兑牡、氧化物和大多數(shù)高分子材料（如聚丙烯、聚脂税灌、聚酰亞胺均函、聚氯乙烷、環(huán)氧菱涤、甚至聚四氟乙烯）等原基材料都能很好處理苞也，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗，還具備環(huán)保粘秆、安全如迟、易控制等優(yōu)勢(shì)，因此在很多方面攻走，尤其是精密件清洗殷勘、新半導(dǎo)體材料研究以及集成電路器件制造業(yè)中逐漸取代了濕法清洗工藝。

普諾克旋片真空泵在等離子清洗技術(shù)中的應(yīng)用同國(guó)內(nèi)同類其他產(chǎn)品相比的優(yōu)點(diǎn)：

1.使用方便陋气，安裝劳吠，維護(hù)簡(jiǎn)單；

2.旋片真空泵設(shè)有氣鎮(zhèn)閥巩趁，可抽除少量水蒸氣痒玩；

3.旋片真空泵的極限真空度高淳附；

4.內(nèi)裝強(qiáng)制進(jìn)油，潤(rùn)滑充分蠢古，性能可靠奴曙；

5.設(shè)有自動(dòng)防返油雙重保險(xiǎn)裝置；

6.保持進(jìn)氣壓強(qiáng)為1.33×10Pa時(shí)仍可連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)草讶；

7.不漏油洽糟、不噴油、不污染工作環(huán)境堕战。